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應用摘要

電感耦合等離子體質譜分析法是將電感耦等離子體(ICP)技術和質譜(MS)技術結合起來, 利用等離子體作為離子源,由接口將等離子體中被電離了的試樣離子引入質譜儀,用質譜儀對離子進行質量分析(按m/Z比值將不同的離子分開)並檢測記錄,根據所得質譜圖進行定性定量分析。具有以下幾個優點:

電感耦合等離子體質譜分析法是將電感耦等離子體(ICP)技術和質譜(MS)技術結合起來, 利用等離子體作為離子源,由接口將等離子體中被電離了的試樣離子引入質譜儀,用質譜儀對離子進行質量分析(按m/Z比值將不同的離子分開)並檢測記錄,根據所得質譜圖進行定性定量分析。具有以下幾個優點:

(1)靈敏度高:ICP-MS儀器的靈敏度一般高出lCP-AES一到兩個數量級,從而對多數元素能達到更低的檢出限:

(2)動態線性範圍寬:

(3)可多元素同時分析;

(4)分析速度快,單個樣品一般在幾秒鐘內完成:

(5)分析元素範圍廣,能分析元素周期表中除碳、氫、氧外的絕大多數元素。

正因為這些優點,使ICP-MS分析技術廣泛應 用於半導體工業用高純材料的痕量雜質分析中。主要進行的高純材料分析

1. IC矽片表面雜質分析

2. 光伏多晶矽、單晶矽雜質分析

3. 三氯氫矽、四氯化矽中金屬雜質金屬元素.

4. 超淨純試劑分析:氫氟酸、硝酸、硫酸、鹽酸、氨水、雙氧水等超純無機試劑,和異丙醇(IPA)、丙酮、四甲基氫氧化銨(TMAH),N-甲基吡咯烷酮(NMP)、丙二醇甲基醚乙酯(PGMEA)等超純有機試劑

5. 超純水分析

6. 高純氣體分析

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